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詳細介紹
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備主要功能
● 全自動150/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產線
●CLIV技術，確保壓印結構精度與結構填充完整性
●Cassette to cassette自動上下片，光學巡邊預對位
●設備內自動復制柔性復合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續生產
●自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環境中自動進行，以保證壓印質量
●標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
●產能可大于40片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的量產
●隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構等工藝流程，幫助客戶零門檻達到國際的納米壓印水平
| 兼容基底尺寸 | GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm GL300 CLIV：200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自動上下片 |
| 晶圓預對位 | 光學巡邊預對位 |
| 納米壓印技術 | CLIV技術，適合高精度、高深寬比納米結構壓印 |
| 壓印精度 | 優于10納米* |
| 結構深寬比 | 優于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配） |
| 設備內部環境控制 | 標配，外部環境Class 100，內部環境可達Class 10* |
| 自動壓印 | 支持 |
| 自動脫模 | 支持 |
| 自動工作模具復制 | 支持 |
| 自動工作模具更換 | 支持 |
| 模具基底對位功能 | 自動對位（選配） |
| 產能 | 可大于40片每小時* |
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